华林伟业

１.该线主要应用于CSTN-LCD示范生产线中，对经过刻蚀后的玻璃基板进行去除残留光刻胶的工艺加工。

在一定温度下用高浓度碱液做脱膜液，喷淋并用滚刷擦洗玻璃基板，以保证将残胶去除净，然后用高纯水冲洗玻璃上的残留碱液同时冲洗残胶，再用气刀风干、远红外加热进行干燥，最后经过冷却，使ITO玻璃基板上形成与光刻掩膜版图形完全一致的ITO图形。

　　３.主要技术要求：

　　　(1)处理对象:STN液晶用玻璃基板

(2)处理目的:光刻胶玻璃

(3)运送方式:水平单片传送